Samsung приобретает оборудование Aisiqiang Mocvd для производства нитрида галлиевого вещества и карбида кремния
Согласно отчету Electronic Times, Samsung Electronics и ее литейных заводов DB Hitek (восточная высокая технология) и ключевой литейный завод (Qifang Semiconductor) приобретет оборудование для осаждения металлического химического пара (MOCVD) в Германии в Германию, чтобы войти в въезд в въезд в въезд для въезда в Германию в Германии.Ган (нитрид галлия) и SIC (кремниевый карбид карбид) рынок производства чипов.
Zdnet Korea недавно процитировал отраслевые источники, которые заявили, что Феликс Грэйерт, генеральный директор Aisiqiang, посетил Южную Корею в середине июля этого года сдержанными способами и провел встречу с тремя основными OEM-фабриками для обсуждения соглашений о поставке оборудования.Все три планируют выйти на рынки Gan и SIC OEM.
Среди них источники показали, что Samsung решил приобрести новейшее оборудование Aixtron MoCVD для обработки GaN и SIC Wafers, с ожидаемой инвестиционной шкалой не менее 700-800 миллиардов корейских побед (540-62 миллиарда долларов США).
Оборудование MOCVD является одним из основных оборудования для производства чипсов GAN.В настоящее время только несколько компаний имеют технические возможности для производства такого оборудования, среди которых Aisiqiang является крупнейшим поставщиком, занимающий 75% доли мирового рынка, за которой следуют Veeco в Соединенных Штатах, причем доля 10-15%.Полем
По сравнению с традиционными кремниевыми полупроводниками, GAN обладает более высокой устойчивостью к высокой температуре и напряжению, а также с более высокой энергоэффективностью.Ожидается, что спрос на GAN в области его, коммуникации и автомобильных приложений быстро расти в будущем.
Инсайдеры промышленности говорят, что Samsung, DB Hitek и Key Foundry планируют коммерциализировать 8-дюймовые услуги GAN OEM с 2025 по 2026 год. В настоящее время они находятся на стадии исследований и производства выборки, что требует лишь небольшого количества оборудования.Тем не менее, они должны сделать значительные инвестиции в оборудование на основе будущих планов массового производства.
Инсайдеры промышленности отмечают, что в начале 2023 года Samsung инвестировал примерно 100-200 миллиардов корейцев, чтобы приобрести 8-дюймовое производственное оборудование GAN и SIC, но общие инвестиции в только производство GAN, как ожидается, достигнут 1 триллионов корейских вон.
В настоящее время литейные заводы Gan и SIC в значительной степени полагаются на поддержку оборудования Aisiqiang.Несмотря на то, что цена на залог на машинах MoCVD достигает 20 миллиардов корейских вон, корейские полупроводниковые литейные заводы по -прежнему активно инвестируют в эту область.
Zdnet Korea недавно процитировал отраслевые источники, которые заявили, что Феликс Грэйерт, генеральный директор Aisiqiang, посетил Южную Корею в середине июля этого года сдержанными способами и провел встречу с тремя основными OEM-фабриками для обсуждения соглашений о поставке оборудования.Все три планируют выйти на рынки Gan и SIC OEM.
Среди них источники показали, что Samsung решил приобрести новейшее оборудование Aixtron MoCVD для обработки GaN и SIC Wafers, с ожидаемой инвестиционной шкалой не менее 700-800 миллиардов корейских побед (540-62 миллиарда долларов США).
Оборудование MOCVD является одним из основных оборудования для производства чипсов GAN.В настоящее время только несколько компаний имеют технические возможности для производства такого оборудования, среди которых Aisiqiang является крупнейшим поставщиком, занимающий 75% доли мирового рынка, за которой следуют Veeco в Соединенных Штатах, причем доля 10-15%.Полем
По сравнению с традиционными кремниевыми полупроводниками, GAN обладает более высокой устойчивостью к высокой температуре и напряжению, а также с более высокой энергоэффективностью.Ожидается, что спрос на GAN в области его, коммуникации и автомобильных приложений быстро расти в будущем.
Инсайдеры промышленности говорят, что Samsung, DB Hitek и Key Foundry планируют коммерциализировать 8-дюймовые услуги GAN OEM с 2025 по 2026 год. В настоящее время они находятся на стадии исследований и производства выборки, что требует лишь небольшого количества оборудования.Тем не менее, они должны сделать значительные инвестиции в оборудование на основе будущих планов массового производства.
Инсайдеры промышленности отмечают, что в начале 2023 года Samsung инвестировал примерно 100-200 миллиардов корейцев, чтобы приобрести 8-дюймовое производственное оборудование GAN и SIC, но общие инвестиции в только производство GAN, как ожидается, достигнут 1 триллионов корейских вон.
В настоящее время литейные заводы Gan и SIC в значительной степени полагаются на поддержку оборудования Aisiqiang.Несмотря на то, что цена на залог на машинах MoCVD достигает 20 миллиардов корейских вон, корейские полупроводниковые литейные заводы по -прежнему активно инвестируют в эту область.